单面/双面光刻

产品简介：

EVG 610是一款入门级光刻机，支持接近式、软接触、硬接触、真空接触4种曝光方式，可选配背面对准模块。也可用于键合对准及纳米压印光刻（NIL），是科研开发用户的理想选择。

主要特点及参数：

       ·最大支持8英寸（200mm）晶圆

       ·顶部及底部对准：

      顶部对准精度≤±0.5μm

      底部对准精度≤±2μm

      红外对准精度≤±2μm（取决于衬底材料）

      键合对准精度≤±2μm

      纳米压印对准精度≤±2μm

      ·支持汞灯或最新的UV-LED光源

      ·自动楔形补偿程序

      ·可选配功能：

     键合对准

     红外对准

     纳米压印光刻（NIL）