半导体解决方案

Delta-X 是布鲁克专为半导体薄膜分析而设计的最新一代 X 射线量测系统，适用于材料研究、工艺开发和质量控制等各阶段。该系统搭载了全自动化光源光学系统，能够在无需人工干预的情况下，切换标准 XRD、高分辨率 XRD（HRXRD）和 X 射线反射模式（XRR）。测量过程可以通过预设测量程序实现全自动化执行，同时支持在半手动模式下进行更复杂的测量。

• 系统定位与适用场景：专为半导体薄膜分析设计的新一代X射线量测系统，覆盖材料研究、工艺开发及质量控制全阶段。
• 光学系统与操作模式：搭载全自动化光源光学系统，可自动切换标准XRD、HRXRD、XRR模式，支持全自动化测量与半手动复杂测量。
• 样品台性能：配备坚固的五轴欧拉样品台，兼容大尺寸晶圆与小尺寸样品，且小样品可自动排队执行多类型检测。
• 分析功能范围：支持高分辨率摇摆曲线、倒易空间成像、XRR、GIXRD、相位鉴定、残余应力评估、薄膜织构与晶粒尺寸分析等多类功能。
• 数据分析能力：搭载JV-RADS、JV-REFS等专业软件套组，提供专家级数据呈现、解读及离线分析功能（如组分、厚度、弛豫度计算等）。